ナノテスティングシンポジウム

Annual Nano Testing Symposium

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NANOTS2019

表彰

Best Interested Paper Award
講演番号
(26)
題目
GANを用いた半導体パターン出来栄え予測技術の開発
A study of lithography process prediction using GAN
著者
大橋拓司(a, 河野祐子(b, 中島 篤(a, 井田知宏(c, 濱口 晶(c
T. Ohashi(a, Y. Kono(b, A. Nakajima(a, C. Ida(c, and A. Hamaguchi(c
所属
a)キオクシア メモリ技術研究所, b)東芝 生産技術センター, c)キオクシア 先端メモリ開発センター
a)Institute of Memory Technology Research & Development, Kioxia Corp., b)Corporate Manufacturing Engineering Center, Toshiba Corp., c)Advanced Memory Development Center, Kioxia Corp.
若手奨励賞(2名)
氏名(所属)
大橋拓司(キオクシア メモリ技術研究所)
T. Ohashi (Institute of Memory Technology Research & Development, Kioxia Corp.)
対象発表
大橋拓司, 河野祐子, 中島 篤, 井田知宏, 濱口 晶, "GANを用いた半導体パターン出来栄え予測技術の開発"
T. Ohashi, Y. Kono, A. Nakajima, C. Ida, and A. Hamaguchi, "A study of lithography process prediction using GAN"
氏名(所属)
岩本 航(大阪大学 大学院情報科学研究科)
K. Iwamoto (Grad. Sch. Information Science and Technology, Osaka Univ.)
対象発表
岩本 航, 御堂義博, 中前幸治, "深層学習を用いたSEMシミュレーション条件最適化手法の検討"
K. Iwamoto, Y. Midoh, and K. Nakamae, "Study on a parameter optimization of scanning electron microscope simulation using deep learning"