NANOTS2019
表彰
- Best Interested Paper Award
- 講演番号
- (26)
- 題目
- GANを用いた半導体パターン出来栄え予測技術の開発
A study of lithography process prediction using GAN
- 著者
- 大橋拓司(a, 河野祐子(b, 中島 篤(a, 井田知宏(c, 濱口 晶(c
T. Ohashi(a, Y. Kono(b, A. Nakajima(a, C. Ida(c, and A. Hamaguchi(c
- 所属
- a)キオクシア メモリ技術研究所, b)東芝 生産技術センター, c)キオクシア 先端メモリ開発センター
a)Institute of Memory Technology Research & Development, Kioxia Corp., b)Corporate Manufacturing Engineering Center, Toshiba Corp., c)Advanced Memory Development Center, Kioxia Corp.
- 若手奨励賞(2名)
- 氏名(所属)
- 大橋拓司(キオクシア メモリ技術研究所)
T. Ohashi (Institute of Memory Technology Research & Development, Kioxia Corp.)
- 対象発表
- 大橋拓司, 河野祐子, 中島 篤, 井田知宏, 濱口 晶, "GANを用いた半導体パターン出来栄え予測技術の開発"
T. Ohashi, Y. Kono, A. Nakajima, C. Ida, and A. Hamaguchi, "A study of lithography process prediction using GAN"
- 氏名(所属)
- 岩本 航(大阪大学 大学院情報科学研究科)
K. Iwamoto (Grad. Sch. Information Science and Technology, Osaka Univ.)
- 対象発表
- 岩本 航, 御堂義博, 中前幸治, "深層学習を用いたSEMシミュレーション条件最適化手法の検討"
K. Iwamoto, Y. Midoh, and K. Nakamae, "Study on a parameter optimization of scanning electron microscope simulation using deep learning"
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